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Klin Monbl Augenheilkd 1986; 188(2): 150-152
DOI: 10.1055/s-2008-1050602
© 1986 F. Enke Verlag Stuttgart

Muster-ERG bei x-chromosomaler juveniler Retinoschisis

Pattern-ERG in X-Linked Juvenile RetinoschisisN. Papst, M. Bopp, B. Remler
  • Arbeitsgemeinschaft II. Physiologische Abteilung, Max-Planck-Institut für Physiologische und Klinische Forschung, W. G. Kerckhoff-Institut, Bad Nauheim (Direktor: Prof. Dr. E. Dodt), Augenklinik der Johann-Wolfgang-Goethe-Universität Frankfurt am Main (Direktor: Prof. Dr. W. Doden)
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Publikationsverlauf

Manuskript erstmals eingereicht 15.8.1985

Zur Publikation in der vorliegenden Form angenommen 12.9.1985

Publikationsdatum:
20. März 2008 (online)

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Zusammenfassung

Typischer elektroretinographischer Befund der x-chromosomalen, juvenilen Retinoschisis ist eine im Normbereich liegende Amplitude der a-Welle sowie eine verminderte b-Welle. Dies charakterisiert eine umschriebene Schädigung im Bereich der Schicht der Bipolarzellen. Die im vorliegenden Fall fovealer Retinoschisis beschriebene Amplitudenreduktion im Muster-ERG ist ein weiterer Hinweis, den Ursprung der Antwort im Bereich der inneren Netzhaut oder ihr nachgeschalteter Strukturen zu suchen.

Summary

Typical electroretinographic Undings in x-chromosomal juvenile retinoschisis are a normal a-wave and a reduced b-wave suggesting that the primary defect is located at the level of the bipolar cell layer whereas deeper retinal structures are not basically affected. The marked amplitude reduction in the pattern-ERG suggests to look for the origin of response in the inner retinal layer or in subsequent structures.